此时的贾老板似乎并没有在意VCD的事情，因为此时他已经被倪光南给缠住了。
“老板，这一次是千载难逢的机会，我们必须要拿下ASML呀！”倪光南在贾老板的耳边不断的重复道，听得贾老板耳朵里面都要起茧子了。
就在昨天，ASML公布了一个在半导体界可谓是举世瞩目的消息，那就是ASML推出了FPA2500，一款193nm的波长扫描曝光机，光学光刻分辨率，达到了70nm的级别，这个举世瞩目的无敌成就。
ASML，是全球最顶尖的光刻机生产商，生产着全球最优秀的光刻机。
光刻机是制作一枚电子芯片最重要的设备，没有之一。
众所周知，一枚电脑芯片，说白了就是一个巨型的集成电路，在这个集成电路上面放置了几十万几百万甚至上千万的微晶体管。
一枚电脑芯片的大小，不过手掌的1/4左右，想要在这样一个小小的电脑芯片上面集成上千万的微晶体管，从而拥有强大的计算能力，那每一个晶体管都渺小到让人难以想象的程度。
如何将这些微晶体集成在这么小小的一片芯片上面，就成为了电脑芯片制造最高的技术！
现在所有的芯片都是使用高晶硅来制作的，所以制作一枚芯片的第1步，就是将石英提纯制作成纯硅，然后制成硅晶棒，最后将其切片就是芯片制作具体需要的晶圆。
第2步是在晶圆上面涂一层薄膜。晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力，而这一层的薄膜，就是未来几千万个微晶体管的模板。
第3步，就是光刻机大展身手的时候了，通过光刻机，将晶圆光刻显影、蚀刻。
之前在晶圆上面涂的那一层薄膜，在性质上对紫外光格外敏感的，只要一遇到紫外光，就会立刻变软，然后可以通过简单的清洗，就能够被清洗掉。
而光刻机的作用，就相当于预先设置好一幅各种微晶体管排列的图案，其中的每一道线条，都直接被遮蔽住，然后当这样的紫外线光照射在晶圆上的时候。
那些被紫外线光照射过的薄膜，就被直接变软溶解，使用特殊溶剂就可以直接冲洗掉。
而没有被紫外线光照射过的部分，就依然能够保持着那一部分的薄膜的存在，让他继续附着在晶圆的表面。
这就和印章的原理有些相似，你把印章在物体表面上用力一盖，纸上就出现了详细的图案了。
第四步就是搀加杂质，将晶圆中植入离子，生成相应的P、N类半导体，将那些被没有被薄膜给遮蔽住的位置，进行各种各样的特殊处理，然后就生产出了一个个具有不同功能的微晶体管出来了。
最后进行检测和封装，然后一枚具有强悍的计算能力的芯片就这么诞生了。
光刻机的原理，简单的说，就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图